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官网： www.lithotechsolutions.com

地址：南京市浦口区江浦街道浦滨路320号科创一号大厦B座21楼

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专利信息 19
软件著作权 7
作品著作权 0
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专利信息19

序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	一种判断通孔开路缺陷的方法	发明专利	CN202111414177.2	CN114119544A	2022-03-01
2	一种筛选光学系统像差敏感度的方法	发明专利	CN202111448235.3	CN114114853A	2022-03-01
3	一种光刻套刻标识设计方法	发明专利	CN201911388384.8	CN110908256B	2021-11-26
4	一种应对应力影响套刻误差的方法和系统	发明专利	CN202110617362.5	CN113376971A	2021-09-10
5	一种用于掩模制造和激光直写光刻的双重直写方法	发明专利	CN202010582950.5	CN111781801B	2021-07-23
6	倒梯形或T型结构的工艺质量评估方法及系统	发明专利	CN201910993367.0	CN110728097B	2021-06-22
7	倒梯形或T型结构的工艺质量评估方法及系统	发明专利	CN201910993367.0	CN110728097A	2021-06-22
8	一种基于机器学习确定光刻系统焦面位置的方法	发明专利	CN201910993362.8	CN110727178B	2021-06-22
9	一种基于机器学习确定光刻系统焦面位置的方法	发明专利	CN201910993362.8	CN110727178A	2021-06-22
10	对准系统的监控和数据的筛选方法	发明专利	CN202110134784.7	CN112885731A	2021-06-01

软件著作权7

序号	软件名称	软件简称	版本号	登记号	分类号	首次发表日期	登记批准日期
1	集成电路纳米高精度尺寸和粗糙度表征系统	iCDMeT	V1.0	2020SR0571064	-	-	2020-06-04
2	集成电路孔型结构尺寸和缺陷测量系统	CirleEdgeFinding_PSD	V1.0	2020SR0571058	-	-	2020-06-04
3	集成电路对准质量仿真和工艺参数优化系统	GUIforAlignment	V1.0	2020SR0571051	-	-	2020-06-04
4	集成电路版图处理软件	GDSViewer	V1.0	2020SR0571044	-	-	2020-06-04
5	Virtual Fab集成电路虚拟制造仿真系统	Virtual Fab	V1.0	2020SR0571037	-	-	2020-06-04
6	集成电路版图光刻像质分析软件	ProjSimu	V1.0	2020SR0571029	-	-	2020-06-04
7	诚芯投影光刻光学成像仿真软件	DUVLithoSimu	V1.0	2020SR0386600	10100-0000	2019-10-15	2020-04-27

作品著作权0

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暂无作品著作权

网站备案2

序号	网站名	网址	备案号	主办单位性质	审核日期
1	微电子制造学报	www.jommpublish.com	苏ICP备20021958号	企业	2020-04-30
2	微电子制造学报	www.lithotechsolutions.com	苏ICP备20021958号	企业	2020-04-30

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