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专利信息16

序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	汽化装置以及汽化方法	发明专利	CN201010575296.1	CN102485952B	2015-09-23
2	化学气相沉积装置	发明专利	CN201010612665.X	CN102534552B	2014-04-30
3	一种化学气相沉积装置及其喷头组件	发明专利	CN201010553706.2	CN101974736B	2013-07-31
4	基板传送系统	实用新型	CN201220187886.1	CN202594391U	2012-12-12
5	气相反应装置	发明专利	CN201010524346.3	CN102061457B	2012-10-31
6	化学气相沉积设备	实用新型	CN201120553436.5	CN202499905U	2012-10-24
7	氧化锌薄膜沉积设备	实用新型	CN201120400506.3	CN202359197U	2012-08-01
8	化学气相沉积装置	发明专利	CN201010612665.X	CN102534552A	2012-07-04
9	汽化装置以及汽化方法	发明专利	CN201010575296.1	CN102485952A	2012-06-06
10	化学气相薄膜沉积设备	实用新型	CN201120346715.4	CN202246856U	2012-05-30

软件著作权2

序号	软件名称	软件简称	版本号	登记号	分类号	首次发表日期	登记批准日期
1	理想 LPCVD控制软件	LPCVD控制软件	V1.0	2017SR542862	10100-0000	2010-04-15	2017-09-25
2	IE低压化学气相沉积设备模拟软件	Jett Simulator	V1.0	2017SR542850	10100-0000	2010-04-15	2017-09-25

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