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专利信息27

序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	一种新型的用于半导体器件制造的设备平台及其工作方法	发明专利	CN202111600607.X	CN114284190A	2022-04-05
2	一种等离子体处理装置	实用新型	CN202023050801.9	CN214313126U	2021-09-28
3	一种反应腔装置	实用新型	CN202023041281.5	CN214279904U	2021-09-24
4	一种反应腔装置	实用新型	CN202023041270.7	CN214099575U	2021-08-31
5	一种反应腔装置	实用新型	CN202120045068.7	CN213878020U	2021-08-03
6	一种预真空锁模块	实用新型	CN202023184107.6	CN213583732U	2021-06-29
7	一种反应腔装置	实用新型	CN202023184490.5	CN213583696U	2021-06-29
8	一种反应腔装置	实用新型	CN202022651965.0	CN213583693U	2021-06-29
9	一种腔内晶圆寻心系统	实用新型	CN202022652065.8	CN213242522U	2021-05-18
10	一种腔内晶圆寻心系统	实用新型	CN202022645745.7	CN213242521U	2021-05-18

软件著作权2

序号	软件名称	软件简称	版本号	登记号	分类号	首次发表日期	登记批准日期
1	12英寸等离子体ICP去胶设备反应腔室控制系统	QJSpinelPM	V1.0	2022SR0518968	-	2021-12-01	2022-04-25
2	6寸等离子体CCP刻蚀设备反应腔室光谱控制系统	CoralOES	V1.0	2022SR0518917	-	2021-11-01	2022-04-25

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