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专利信息11
序号 | 专利名称 | 专利类型 | 申请号 | 公开(公告)号 | 公布日期 |
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1 | 高压半导体功率装置的边缘终接的结构 | 发明专利 | CN202010327210.7 | CN113555413A | 2021-10-26 |
2 | 自对准的沟槽式场效应晶体管及其制备方法 | 发明专利 | CN202010277938.3 | CN113540234A | 2021-10-22 |
3 | 沟槽型功率器件的沟槽栅结构及其制造方法 | 发明专利 | CN202010277890.6 | CN113517341A | 2021-10-19 |
4 | 具有超结晶体管机构的集成电路系统 | 实用新型 | CN202022926608.0 | CN214313214U | 2021-09-28 |
5 | 具有超结晶体管机构的集成电路系统和其制造方法 | 发明专利 | CN202011428328.5 | CN112436052A | 2021-03-02 |
6 | 一种保护屏蔽栅沟槽型场效应晶体管的屏蔽多晶硅侧壁的形成方法 | 发明专利 | CN201910765715.9 | CN112397390A | 2021-02-23 |
7 | 自对准的沟槽式场效应晶体管 | 实用新型 | CN202020529911.4 | CN211700291U | 2020-10-16 |
8 | 高压半导体功率装置的边缘终接的结构 | 实用新型 | CN202020631223.9 | CN211700290U | 2020-10-16 |
9 | 屏蔽栅极沟槽半导体装置及其制造方法 | 发明专利 | CN201910202460.5 | CN111697082A | 2020-09-22 |
10 | 沟槽型功率器件的沟槽栅结构 | 实用新型 | CN202020530709.3 | CN211455690U | 2020-09-08 |
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