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序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	研磨装置、研磨机及研磨方法	发明专利	CN202011231876.9	CN112518573B	2022-06-07
2	一种抛光液供给装置、抛光头及抛光设备	发明专利	CN202011326232.8	CN114536209A	2022-05-27
3	一种测量熔硅液面位置的定位销及晶硅熔炉	实用新型	CN202120221631.1	CN216473570U	2022-05-10
4	硅片分选机	发明专利	CN202011244903.6	CN114453284A	2022-05-10
5	一种清洗抛光垫的方法及装置	发明专利	CN202011223294.6	CN114434332A	2022-05-06
6	一种单晶炉泄漏引流装置及单晶炉	发明专利	CN202011124772.8	CN114381798A	2022-04-22
7	一种晶圆表面损伤层深度测量方法及系统	发明专利	CN202011237065.X	CN112355882B	2022-04-22
8	应用于双面抛光设备的物料管理方法、系统及存储介质	发明专利	CN202011350935.4	CN112405306B	2022-03-22
9	应用于双面抛光设备的物料管理方法、系统及存储介质	发明专利	CN202011344635.5	CN112388496B	2022-03-22
10	一种将抛光垫的初始状态转变为亲水性的方法和装置	发明专利	CN202011256546.5	CN112372509B	2022-02-25

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