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商标信息 2
专利信息 10
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商标信息2

序号	商标名称	国际分类	注册号	状态	申请日期	操作
1	图形	40类-材料加工	55908091	商标已注册	2021-05-10	查看
2	众芯联电子材料;SDEM	40类-材料加工	50439079	商标已注册	2020-10-15	查看

专利信息10

序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	一种大型平面部件的喷砂系统	实用新型	CN202122385189.9	CN215968257U	2022-03-08
2	一种新型两用台车	实用新型	CN202122085810.X	CN215940375U	2022-03-04
3	一种泛半导体制造设备用双极静电卡盘及其制作方法	发明专利	CN202111398828.3	CN114121766A	2022-03-01
4	一种干刻下部电极加工用治具板	实用新型	CN202122087494.X	CN215600338U	2022-01-21
5	一种用于静电吸盘侧面喷涂的旋转夹具	实用新型	CN202122087493.5	CN215507430U	2022-01-14
6	一种具有致密浮点表面结构的下部电极及其制作方法	发明专利	CN202111220383.X	CN113917720A	2022-01-11
7	一种用于LCD和AMOLED设备的大型铝基板的加工工艺	发明专利	CN202111051551.7	CN113751969A	2021-12-07
8	一种用于LCD和AMOLED干刻下部电极的再生工艺	发明专利	CN202110970139.9	CN113667919A	2021-11-19
9	一种陶瓷材料及其耐等离子涂层的制备方法	发明专利	CN202110876412.1	CN113501727A	2021-10-15
10	一种基材等离子喷涂工艺	发明专利	CN202011416854.X	CN112553559A	2021-03-26

软件著作权3

序号	软件名称	软件简称	版本号	登记号	分类号	首次发表日期	登记批准日期
1	众芯联干刻设备下部电极等离子熔射程系统	-	V1.0	2021SR2079878	-	-	2021-12-20
2	众芯联半导体干刻部件等离子熔射系统	-	V1.0	2021SR2079858	-	-	2021-12-20
3	众芯联CVD设备基台等离子熔射系统	-	V1.0	2021SR1885997	-	-	2021-11-25

作品著作权0

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