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序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	一种用于光刻机照明系统的自由光瞳生成方法	发明专利	CN202011406432.4	CN112462577A	2021-03-09
2	一种光刻胶模型的建立方法及电子设备	发明专利	CN202011255892.1	CN112364508A	2021-02-12
3	一种负显影光刻工艺的仿真方法、负显影光刻胶模型、OPC模型及电子设备	发明专利	CN202011306691.X	CN112363372A	2021-02-12
4	一种双重图形掩模优化结果的跨接缺陷检测方法及电子设备	发明专利	CN202011241787.2	CN112348797A	2021-02-09
5	一种衡量光瞳之间匹配程度的评价方法	发明专利	CN202011255868.8	CN112305874A	2021-02-02
6	一种负显影光刻工艺的全芯片快速仿真方法、负显影光刻胶模型、OPC模型及电子设备	发明专利	202011153654X	CN112257270A	2021-01-22
7	一种计算光刻投影物镜中朗奇剪切干涉图像的方法	发明专利	CN202011148935.6	CN112114501A	2020-12-22
8	一种光源、偏振及掩模联合优化方法及电子设备	发明专利	CN202010928268.7	CN111965935A	2020-11-20
9	一种集成电路掩模设计的优化方法及计算机可读的存储介质	发明专利	CN201710065850.3	CN106777829B	2019-04-12
10	全芯片掩模图案生成的方法、装置及计算机可读介质	发明专利	CN201810155893.5	CN108490735A	2018-09-04

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1	东方晶源微电子科技（北京）有限公司深圳分公司	113.106.165.242	粤ICP备2021092158号	企业	2021-07-06
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