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  • 矩阵多元

    深圳市矩阵多元科技有限公司

    存续
    • 地址:深圳市龙华区民治街道上芬社区龙屋工业区6号厂房101一、二楼
    • 简介:-
    • 商标信息 2
    • 专利信息 25
    • 软件著作权 4
    • 作品著作权 0
    • 网站备案 2

    商标信息2

    序号 商标名称 国际分类 注册号 状态 申请日期 操作
    1 图形 09类-科学仪器 37865732A 商标已注册 2019-04-28 查看
    2 图形 09类-科学仪器 37865732 驳回复审中 2019-04-28 查看

    专利信息25

    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 一种高通量掩膜版及高通量薄膜制造设备 实用新型 CN202022729297.9 CN214991797U 2021-12-03
    2 一种高通量掩膜版及切换机构 实用新型 CN202022309143.4 CN214991796U 2021-12-03
    3 一种高通量掩膜版、高通量薄膜制造设备及制造方法 发明专利 CN202011322226.5 CN112795869A 2021-05-14
    4 一种脉冲激光沉积和磁控溅射复合系统 实用新型 CN201922082352.7 CN211445880U 2020-09-08
    5 脉冲激光沉积加热器 实用新型 CN201921819387.8 CN211152225U 2020-07-31
    6 一种激光入射窗口保护装置 实用新型 CN201921961180.4 CN211142144U 2020-07-31
    7 脉冲激光沉积三维加热台 实用新型 CN201921802768.5 CN211142143U 2020-07-31
    8 一种薄膜沉积工艺控制系统 实用新型 CN201822206910.1 CN209854239U 2019-12-27
    9 石英掩膜结构体 实用新型 CN201821909824.0 CN209412300U 2019-09-20
    10 一种配比可控的大面积高通量复合薄膜合成装置 实用新型 CN201822157390.X CN209194035U 2019-08-02

    软件著作权4

    序号 软件名称 软件简称 版本号 登记号 分类号 首次发表日期 登记批准日期
    1 脉冲激光沉积系统 - V1.0 2020SR0013324 10100-0000 2019-05-23 2020-01-03
    2 脉冲激光沉积设备的镀膜控制系统 - V1.0 2020SR0013278 10100-0000 2019-06-20 2020-01-03
    3 磁控溅射系统 - V1.0 2020SR0012824 10100-0000 2019-09-05 2020-01-03
    4 PLD设备PLC多从站轮循读写控制系统 - V1.0 2019SR0622051 10100-0000 2019-03-01 2019-06-17

    作品著作权0

    暂无信息 暂无作品著作权

    网站备案2

    序号 网站名 网址 备案号 主办单位性质 审核日期
    1 深圳市矩阵多元科技有限公司 www.arrayedmaterials.com 粤ICP备17070621号 企业 2017-06-13
    2 - www.arrayedmaterials.com 粤ICP备17070621号 企业 2017-06-13
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