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    南昌中微半导体设备有限公司

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    • 地址:江西省南昌市南昌高新技术产业开发区光电路699号
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    • 作品著作权 0
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    专利信息54

    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 一种薄膜生长系统以及基片托盘和载环组件 实用新型 CN202023270443.2 CN214313127U 2021-09-28
    2 用于化学气相沉积装置的托盘和化学气相沉积装置 发明专利 CN201911405406.7 CN113122825A 2021-07-16
    3 金属有机物化学气相沉积反应器 发明专利 CN201911411224.0 CN113122823A 2021-07-16
    4 用于化学气相沉积装置的托盘和化学气相沉积装置 实用新型 CN201922459233.9 CN211570766U 2020-09-25
    5 托盘及其金属有机化学气相沉积反应器 实用新型 CN202020138314.9 CN211445893U 2020-09-08
    6 一种化学气相沉积装置及其清洁方法 发明专利 CN201510218357.1 CN106191809B 2018-12-25
    7 晶圆托盘 发明专利 CN201410850544.7 CN105810625B 2018-10-16
    8 化学气相沉积反应器或外延层生长反应器及其支撑装置 发明专利 CN201510488320.0 CN105088187B 2018-09-18
    9 一种等离子处理装置运行方法 发明专利 CN201510747995.2 CN106683969B 2018-09-11
    10 一种MOCVD反应器的处理方法 发明专利 CN201510083854.5 CN105986243B 2018-07-24

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