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序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液	发明专利	CN201611231351.9	CN108250972B	2021-09-21
2	一种氮化硅化学机械抛光液	发明专利	CN201611070743.1	CN108117840B	2021-09-21
3	一种化学机械抛光液	发明专利	CN201710569718.6	CN109251671B	2021-09-17
4	一种具有高氮化硅选择性的化学机械抛光液	发明专利	CN201611070473.4	CN108117839B	2021-09-17
5	一种氮化硅化学机械抛光液	发明专利	CN201611070459.4	CN108117838B	2021-09-17
6	一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液	发明专利	CN201611231383.9	CN108250977B	2021-08-27
7	一种化学机械抛光液	发明专利	CN201710570203.8	CN109251677B	2021-08-13
8	一种化学机械抛光液	发明专利	CN201710570202.3	CN109251676B	2021-07-30
9	一种化学机械抛光液	发明专利	CN201710569910.5	CN109251675B	2021-07-30
10	一种等离子体刻蚀残留物清洗液	发明专利	CN201911407714.3	CN113130292A	2021-07-16

共 23 页

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