商标信息4
专利信息11
序号 | 专利名称 | 专利类型 | 申请号 | 公开(公告)号 | 公布日期 |
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1 | 一种离子辅助的多靶磁控溅射设备 | 发明专利 | CN202111504598.4 | CN114015997A | 2022-02-08 |
2 | 均匀薄膜沉积的设备 | 实用新型 | CN202120714152.3 | CN215517614U | 2022-01-14 |
3 | 一种折射率可调的AlN薄膜的制备设备 | 实用新型 | CN202121409192.3 | CN215517601U | 2022-01-14 |
4 | 离子辅助、倾斜溅射的PVD系统 | 实用新型 | CN202120137380.9 | CN215209603U | 2021-12-17 |
5 | 磁控溅射设备的可调式挡板 | 实用新型 | CN202022361509.2 | CN214168116U | 2021-09-10 |
6 | 一种折射率可调的AlN薄膜的制备设备及方法 | 发明专利 | CN202110702031.1 | CN113337795A | 2021-09-03 |
7 | 一种应力可调控的、反应溅射AlN薄膜的制备方法和设备 | 发明专利 | CN202110465438.7 | CN113265613A | 2021-08-17 |
8 | 一种离子辅助、倾斜溅射、反应溅射沉积薄膜的方法及设备 | 发明专利 | CN202110268042.3 | CN113061857A | 2021-07-02 |
9 | 均匀薄膜沉积的方法和设备 | 发明专利 | CN202110378222.7 | CN112981350A | 2021-06-18 |
10 | 离子源及离子刻蚀设备 | 实用新型 | CN202022399024.2 | CN213184195U | 2021-05-11 |
软件著作权0
作品著作权0
网站备案1
序号 | 网站名 | 网址 | 备案号 | 主办单位性质 | 审核日期 |
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1 | 浙江艾微普科技有限公司 | www.avptec.com | 浙ICP备20004147号 | 企业 | 2020-02-13 |
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