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商标信息 3
专利信息 26
软件著作权 4
作品著作权 0
网站备案 0

商标信息3

序号	商标名称	国际分类	注册号	状态	申请日期	操作
1	RUNSEMI	07类-机械设备	48013289	商标已注册	2020-07-12	查看
2	RUNSEMI	37类-建筑修理	47258793	商标已注册	2020-06-15	查看
3	RUNSEMI	35类-广告销售	47258408	商标已注册	2020-06-15	查看

专利信息26

序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	一种CMP后清洗装置及其清洗方法	发明专利	CN201910729449.4	CN110517975B	2022-02-22
2	一种具有自动切换清洗工具功能的晶圆片清洗机构	实用新型	CN202120254679.2	CN215391087U	2022-01-04
3	一种用于晶圆的超声波清洗设备	实用新型	CN202023254842.X	CN215142797U	2021-12-14
4	一种硅片用超声波清洗机构	实用新型	CN202022266861.8	CN214600733U	2021-11-05
5	一种晶圆用高温药液清洗设备	实用新型	CN202022977996.5	CN213845234U	2021-07-30
6	一种半导体硅片用清洗装置	实用新型	CN202022278024.7	CN213826091U	2021-07-30
7	一种晶元用预清洗机构	实用新型	CN202021208850.8	CN213103379U	2021-05-04
8	一种CMP后清洗用晶圆夹持装置	实用新型	CN202021602402.6	CN213093187U	2021-04-30
9	一种晶圆CMP后清洗的搬送方法	发明专利	CN202011446726.X	CN112635374A	2021-04-09
10	一种晶圆用高温药液清洗设备及其清洗工艺	发明专利	CN202011448759.8	CN112614794A	2021-04-06

软件著作权4

序号	软件名称	软件简称	版本号	登记号	分类号	首次发表日期	登记批准日期
1	RUNSEMI Wet Cluster SPIN控制软件	-	V1.0	2020SR0692058	-	-	2020-06-29
2	RUNSEMI DRY Cluster SPIN控制软件	-	V1.0	2020SR0691827	-	-	2020-06-29
3	半导体硅片单片清洗机SPIN单元PLC控制软件	-	V1.0	2020SR0047257	-	-	2020-01-09
4	半导体硅片单片清洗机Main单元PLC控制软件	-	V1.0	2020SR0047256	-	-	2020-01-09

作品著作权0

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