商标信息15
序号 | 商标名称 | 国际分类 | 注册号 | 状态 | 申请日期 | 操作 |
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1 | RFΑSOI | 35类-广告销售 | 23409548 | 商标已注册 | 2017-04-05 | 查看 |
2 | RFASOI | 42类-网站服务 | 23409415 | 商标已注册 | 2017-04-05 | 查看 |
3 | RFASOI | 09类-科学仪器 | 23409156 | 商标已注册 | 2017-04-05 | 查看 |
4 | 硅基科技 | 42类-网站服务 | 13570663 | 商标已注册 | 2013-11-19 | 查看 |
5 | 硅基科技 | 35类-广告销售 | 13570550 | 商标已注册 | 2013-11-19 | 查看 |
6 | 硅基科技 | 09类-科学仪器 | 13570495 | 商标已注册 | 2013-11-19 | 查看 |
7 | SYSILICON | 42类-网站服务 | 13570423 | 商标已注册 | 2013-11-19 | 查看 |
8 | SYSILICON | 35类-广告销售 | 13570317 | 商标已注册 | 2013-11-19 | 查看 |
9 | SYSILICON | 09类-科学仪器 | 13570193 | 商标无效 | 2013-11-19 | 查看 |
10 | SYSILICON | 42类-网站服务 | 13570090 | 商标已注册 | 2013-11-19 | 查看 |
专利信息59
序号 | 专利名称 | 专利类型 | 申请号 | 公开(公告)号 | 公布日期 |
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1 | 一种特殊结构的SOI及其制备方法 | 发明专利 | CN202111524906.X | CN114188362A | 2022-03-15 |
2 | 一种贯穿空腔结构硅片的加工方法 | 发明专利 | CN201810075852.5 | CN110078017B | 2021-11-05 |
3 | 一种双面注入得到SOI的方法 | 发明专利 | CN201810075765.X | CN110085549B | 2021-06-04 |
4 | 一种双面注入得到SOI的方法 | 发明专利 | CN201810075765.X | CN110085549A | 2021-06-04 |
5 | 一种多层单晶硅薄膜的制备方法 | 发明专利 | CN201810075920.8 | CN110085510B | 2021-06-04 |
6 | 一种多层单晶硅薄膜的制备方法 | 发明专利 | CN201810075920.8 | CN110085510A | 2021-06-04 |
7 | 一种去除TM-SOI顶层硅缺陷的方法 | 发明专利 | CN201610025528.3 | CN106981451B | 2021-05-07 |
8 | 一种键合片分离设备 | 实用新型 | CN201921815962.7 | CN210925951U | 2020-07-03 |
9 | 以氮化物薄膜为绝缘埋层的SOI材料及其制备方法 | 发明专利 | CN201610792264.4 | CN107785304B | 2020-03-20 |
10 | 一种非接触无损伤的测量外延SOI外延层电阻率的方法 | 发明专利 | CN201610079153.9 | CN107026097B | 2020-03-20 |
软件著作权0
作品著作权1
序号 | 作品名 | 作品类别 | 登记号 | 创作完成日期 | 首次发表日期 | 登记批准日期 |
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1 | 硅基科技图标 | - | 国作登字-2014-F-00137611 | - | 2009 | 2014 |
网站备案4
序号 | 网站名 | 网址 | 备案号 | 主办单位性质 | 审核日期 |
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1 | - | - | 辽ICP备2022002451号 | 企业 | 2022-03-29 |
2 | - | - | 辽ICP备2022002451号 | 企业 | 2022-03-25 |
3 | - | - | 辽ICP备2022002451号 | 企业 | 2022-03-25 |
4 | - | - | 辽ICP备2022002451号 | 企业 | 2022-03-14 |
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