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  • 理想晶延

    理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司

    存续
    • 地址:上海市松江区思贤路3255号3幢402室
    • 简介:-
    • 商标信息 58
    • 专利信息 97
    • 软件著作权 13
    • 作品著作权 0
    • 网站备案 3

    商标信息58

    序号 商标名称 国际分类 注册号 状态 申请日期 操作
    1 图形 07类-机械设备 50146248 商标已注册 2020-09-28 查看
    2 图形 35类-广告销售 50144330 商标已注册 2020-09-28 查看
    3 IDEAL DEPOSITION 07类-机械设备 45776310 商标已注册 2020-04-24 查看
    4 理想晶延 IDAL 04类-燃料油脂 45776271 商标无效 2020-04-24 查看
    5 理想晶延 IDAL 40类-材料加工 45775781 商标无效 2020-04-24 查看
    6 IDEAL DEPOSITION 37类-建筑修理 45775741 商标已注册 2020-04-24 查看
    7 理想晶延 IDAL 19类-建筑材料 45775586 商标无效 2020-04-24 查看
    8 理想晶延 IDA 11类-灯具空调 45775567 商标无效 2020-04-24 查看
    9 理想晶延 IDA 11类-灯具空调 45775562 商标无效 2020-04-24 查看
    10 IDEAL DEPOSITION 09类-科学仪器 45775505 商标已注册 2020-04-24 查看

    专利信息97

    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 一种管式炉系统 实用新型 CN202123348920.7 CN216898401U 2022-07-05
    2 一种原子层沉积设备 实用新型 CN202123083824.4 CN216891209U 2022-07-05
    3 适用于制备低电阻薄膜的石墨载具 实用新型 CN202122935859.X CN216378390U 2022-04-26
    4 电池背部结构及其制备方法、电池 发明专利 CN202111617968.5 CN114400261A 2022-04-26
    5 管式清洗设备以及光伏镀膜系统 发明专利 CN202110205996.X CN113000487B 2022-04-26
    6 管式沉积系统 发明专利 CN201910798935.1 CN110408914B 2021-07-20
    7 管式清洗设备以及光伏镀膜系统 发明专利 CN202110205996.X CN113000487A 2021-06-22
    8 应用于管式镀膜设备的处理方法 发明专利 CN202011592604.1 CN112813420A 2021-05-18
    9 应用于管式PECVD沉积设备的生产工艺 发明专利 CN202011592646.5 CN112813413A 2021-05-18
    10 应用于镀膜设备的处理方法 发明专利 CN202011590653.1 CN112813412A 2021-05-18

    软件著作权13

    序号 软件名称 软件简称 版本号 登记号 分类号 首次发表日期 登记批准日期
    1 华源晶电六管低压扩散控制系统软件 - V1.0 2021SR1197846 - 2018-01-26 2021-08-13
    2 理想晶延PECVD设备控制软件 IDEA PECVD V1.0 2020SR1084952 - 2020-03-30 2020-09-11
    3 理想晶延PECVD设备数据采集软件 IDEA PECVD DataViewer V1.0 2020SR1084543 - 2020-03-30 2020-09-11
    4 理想金属有机化合物化学气相沉积设备控制软件 IE MOCVD控制软件 V1.0 2020SR0799697 - 2011-08-22 2020-07-20
    5 理想板式ALD设备数据记录分析软件 - V1.0 2017SR379829 - 2017-02-17 2017-07-18
    6 理想化学气相沉积设备维护辅助软件 - V1.0 2017SR373422 - 2017-04-20 2017-07-14
    7 理想化学气相沉积设备远程监控管理软件 - V1.0 2017SR373415 - 2017-05-31 2017-07-14
    8 理想板式ALD设备实时控制软件 - V1.0 2017SR372754 - 2016-11-22 2017-07-14
    9 理想板式ALD设备加热控制软件 - V1.0 2017SR372702 - 2016-12-30 2017-07-14
    10 理想化学气相沉积设备成品率管理软件 - V1.0 2017SR372540 - 2017-03-14 2017-07-14

    作品著作权0

    暂无信息 暂无作品著作权

    网站备案3

    序号 网站名 网址 备案号 主办单位性质 审核日期
    1 理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司 www.idealdeposition.com 沪ICP备19017167号 企业 2020-10-27
    2 理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司 www.idealdeposition.com 沪ICP备19017167号 企业 2020-10-27
    3 - www.idealdeposition.com 沪ICP备19017167号 企业 2020-10-27
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