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  • 京河

    秦皇岛京河科学技术研究院有限公司

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    • 地址:秦皇岛市经济技术开发区数谷大道2号数谷大厦1402-2房间
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    专利信息16

    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 耐高温低功耗的SiC MOSFET功率器件的制备方法及其结构 发明专利 CN201711397848.2 CN108257856B 2019-05-24
    2 一种SiC结势垒肖特基二极管及其制造方法 发明专利 CN201811288687.8 CN109461768A 2019-03-12
    3 一种无注入型终结端结构的SiC肖特基二极管及其制备方法 发明专利 CN201811064324.6 CN109461654A 2019-03-12
    4 一种碳化硅器件制造方法 发明专利 CN201811288664.7 CN109461648A 2019-03-12
    5 一种SiCMOSFET栅氧化层退火方法 发明专利 CN201811288681.0 CN109461646B 2019-03-12
    6 一种SiC MOSFET栅氧化层退火方法 发明专利 CN201811288681.0 CN109461646A 2019-03-12
    7 一种抗浪涌能力增强型的4H-SiC肖特基二极管及其制备方法 发明专利 CN201811063584.1 CN109449085A 2019-03-08
    8 SiC沟槽MOS器件及其制作方法 发明专利 CN201811288730.0 CN109411546A 2019-03-01
    9 一种SiC MOSFET栅氧化层退火方法 发明专利 CN201811290893.2 CN109411343A 2019-03-01
    10 一种碳化硅沟槽刻蚀方法 发明专利 CN201811288688.2 CN109411342A 2019-03-01

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