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  • 烁科精微

    北京晶亦精微科技股份有限公司

    存续
    • 地址:北京市北京经济技术开发区泰河三街1号2幢2层101
    • 简介:-
    • 商标信息 0
    • 专利信息 112
    • 软件著作权 8
    • 作品著作权 0
    • 网站备案 2

    商标信息0

    暂无信息 暂无商标信息

    专利信息112

    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 一种晶圆夹紧装置 发明专利 CN202210389115.9 CN114758979A 2022-07-15
    2 一种晶圆研磨方法 发明专利 CN202210314804.3 CN114734372A 2022-07-12
    3 一种晶圆调度控制方法、装置、存储介质及电子设备 发明专利 CN202210417998.X CN114723310A 2022-07-08
    4 一种晶圆切边位置检测装置 发明专利 CN202210356473.X CN114719750A 2022-07-08
    5 一种涡流传感器 发明专利 CN202210447738.7 CN114705115A 2022-07-05
    6 一种晶圆缺口检测电路及装置 发明专利 CN202210302115.0 CN114690026A 2022-07-01
    7 一种化学机械抛光设备及其防碰撞方法 发明专利 CN202210322378.8 CN114683174A 2022-07-01
    8 一种抛光装置及化学机械平坦化设备 发明专利 CN202010706186.8 CN111958479B 2022-06-28
    9 一种厚度测量系统、方法、电子设备及存储介质 发明专利 CN202210330645.6 CN114664685A 2022-06-24
    10 一种研磨结构及具有其的晶圆研磨装置 发明专利 CN202210286645.0 CN114654381A 2022-06-24

    软件著作权8

    序号 软件名称 软件简称 版本号 登记号 分类号 首次发表日期 登记批准日期
    1 Horizon-T型CMP设备软件 Horizon-T CMP 软件 V1.0 2022SR0551127 - - 2022-04-29
    2 Horizon-T型Cleaner系统软件 Horizon-T Cleaner软件 V1.0 2022SR0551126 - - 2022-04-29
    3 Skylens型CMP设备软件系统 CMP300设备软件 V1.0.1 2021SR1046038 - - 2021-07-15
    4 精确调整过程控制系统 PTPC V1.0.1 2020SR1585385 - - 2020-11-16
    5 300mmCMP Polisher系统软件 Polisher系统软件 V1.0.4 2020SR1162204 - - 2020-09-25
    6 300mmCMP Cleaner系统软件 Cleaner系统软件 V1.0.1 2020SR1162197 - - 2020-09-25
    7 300mmCMP Scheduler系统软件 Scheduler系统软件 V1.0.1 2020SR1162189 - - 2020-09-25
    8 CMP精准过程控制系统 - V1.0.1 2020SR0925186 - - 2020-08-13

    作品著作权0

    暂无信息 暂无作品著作权

    网站备案2

    序号 网站名 网址 备案号 主办单位性质 审核日期
    1 北京烁科精微电子装备有限公司 www.semicores.com 京ICP备19058997号 企业 2019-12-25
    2 - www.semicores.com 京ICP备19058997号 企业 2019-12-25
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