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  • 尚积

    无锡尚积半导体科技有限公司

    存续
    • 官网:-
    • 地址:无锡市新吴区长江南路35-312号厂房
    • 简介:-
    • 商标信息 5
    • 专利信息 13
    • 软件著作权 2
    • 作品著作权 0
    • 网站备案 1

    商标信息5

    序号 商标名称 国际分类 注册号 状态 申请日期 操作
    1 DEPOMERITS 42类-网站服务 58790812 商标已注册 2021-08-26 查看
    2 DEPOMERITS 35类-广告销售 58788193 商标已注册 2021-08-26 查看
    3 DEPOMERITS 09类-科学仪器 58774832 商标已注册 2021-08-26 查看
    4 PLASMERITS 09类-科学仪器 58631804 初审公告 2021-08-20 查看
    5 SJI-SEMI 09类-科学仪器 57721112 商标已注册 2021-07-15 查看

    专利信息13

    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 一种提高金属膜沉积台阶覆盖率的装置 发明专利 CN202210426440.8 CN114645245A 2022-06-21
    2 一种晶圆的检测方法、溅射设备及计算机可读存储介质 发明专利 CN202210085641.6 CN114496853A 2022-05-13
    3 一种用于晶圆的胶刻蚀方法 发明专利 CN202210026734.1 CN114496777A 2022-05-13
    4 一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台 实用新型 CN202122806544.5 CN216378351U 2022-04-26
    5 一种提升氧化钒刻蚀形貌的工艺方法 发明专利 CN202111205628.1 CN113948400A 2022-01-18
    6 一种解决磁控溅射生长氧化钒薄膜颗粒的工艺方法 发明专利 CN202111204291.2 CN113930741A 2022-01-14
    7 一种改善氧化钒膜厚均匀性的气相沉积设备及其气相沉积方法 发明专利 CN202111205625.8 CN113930735A 2022-01-14
    8 一种全遮挡屏蔽式氧化钒磁控溅射方法及其设备 发明专利 CN202111205635.1 CN113930724A 2022-01-14
    9 一种材料处理方法及设备 发明专利 CN202111074839.6 CN113862626A 2021-12-31
    10 一种物理气相沉积源的移动装置及物理气相沉积装置 发明专利 CN202111080316.2 CN113846293A 2021-12-28

    软件著作权2

    序号 软件名称 软件简称 版本号 登记号 分类号 首次发表日期 登记批准日期
    1 松尚VOx薄膜溅射氧气控制系统软件 Vox控制系统 V1.0 2021SR1967977 - - 2021-12-01
    2 松尚CENTURA PVD机台LOADLOCK腔室冷泵改分子泵真空控制系统 - V1.0 2021SR1967976 - - 2021-12-01

    作品著作权0

    暂无信息 暂无作品著作权

    网站备案1

    序号 网站名 网址 备案号 主办单位性质 审核日期
    1 - - 苏ICP备2022013598号 企业 2022-04-12
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