商标信息5
专利信息13
序号 | 专利名称 | 专利类型 | 申请号 | 公开(公告)号 | 公布日期 |
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1 | 一种提高金属膜沉积台阶覆盖率的装置 | 发明专利 | CN202210426440.8 | CN114645245A | 2022-06-21 |
2 | 一种晶圆的检测方法、溅射设备及计算机可读存储介质 | 发明专利 | CN202210085641.6 | CN114496853A | 2022-05-13 |
3 | 一种用于晶圆的胶刻蚀方法 | 发明专利 | CN202210026734.1 | CN114496777A | 2022-05-13 |
4 | 一种提高氧化钒沉积均匀度的载片台 | 实用新型 | CN202122806544.5 | CN216378351U | 2022-04-26 |
5 | 一种提升氧化钒刻蚀形貌的工艺方法 | 发明专利 | CN202111205628.1 | CN113948400A | 2022-01-18 |
6 | 一种解决磁控溅射生长氧化钒薄膜颗粒的工艺方法 | 发明专利 | CN202111204291.2 | CN113930741A | 2022-01-14 |
7 | 一种改善氧化钒膜厚均匀性的气相沉积设备及其气相沉积方法 | 发明专利 | CN202111205625.8 | CN113930735A | 2022-01-14 |
8 | 一种全遮挡屏蔽式氧化钒磁控溅射方法及其设备 | 发明专利 | CN202111205635.1 | CN113930724A | 2022-01-14 |
9 | 一种材料处理方法及设备 | 发明专利 | CN202111074839.6 | CN113862626A | 2021-12-31 |
10 | 一种物理气相沉积源的移动装置及物理气相沉积装置 | 发明专利 | CN202111080316.2 | CN113846293A | 2021-12-28 |
软件著作权2
序号 | 软件名称 | 软件简称 | 版本号 | 登记号 | 分类号 | 首次发表日期 | 登记批准日期 |
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1 | 松尚VOx薄膜溅射氧气控制系统软件 | Vox控制系统 | V1.0 | 2021SR1967977 | - | - | 2021-12-01 |
2 | 松尚CENTURA PVD机台LOADLOCK腔室冷泵改分子泵真空控制系统 | - | V1.0 | 2021SR1967976 | - | - | 2021-12-01 |
作品著作权0
网站备案1
序号 | 网站名 | 网址 | 备案号 | 主办单位性质 | 审核日期 |
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1 | - | - | 苏ICP备2022013598号 | 企业 | 2022-04-12 |
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